台积电明年7奈米匯入EUV制程 成本将增2倍

钜亨网新闻中心  2018-12-27  11:11 

全球晶圆代工厂商的竞赛走向 7 奈米,背後需要的钜额研发基金,尤其是 EUV  (极紫外线,Extreme Ultraviolet),成本更是已高达目前的 (ArF) 光源搭配浸润式显影 (Immersion lithography) 二倍之多,如此高额的成本,已经打退了联电、GlobalFoundries 等玩家,只剩台积电 (2330-TW)、三星电子二间大厂有能力负担。

半导体代工行业为专注于提升良率,三星、台积电均使用 EUV 来提高精度与产量,消息指出,台积电计划在 2019 年开始,将 EUV 机器用于其第二代 7 奈米技术。

而 EUV 的致命缺点就是在於昂贵,业界指出,EUV 机器的成本几乎是目前生产中使用的 ArF 工具的两倍。ArF 机器价格要价约 5600-6200 万美元,EUV 机器价格 1 台上看 1.2 亿美元,大幅垫高晶圆代工厂商资本支出,这也使得 7 奈米的技术愈来愈少厂商玩得起。

据集邦科技拓墣产业研究报告指出,半导体产业奉摩尔定律为圭臬,努力将线宽缩小,以便在晶片上塞入更多电晶体,虽然晶圆代工价格也因制程微缩而随之上升,但越精细的制程技术除了能切割出更多晶片外,也能提升产品效能和降低功耗。但在物理极限下,先进位程微缩变得越来越困难。

摩尔定律由于显影 (Lithography) 技术障碍受到挑战。产业界使用 193nm ArF 光源搭配浸润式显影 (Immersion lithography) 技术制造晶片,但在 7 奈米的考验下,采用显影及多重曝光技术仅能做单一方向微缩,无法做 2 个方向的微缩,以往随着制程微缩,每晶片成本随之下降情况已不复见。

波长更短的 EUV 便成为 7 奈米以下制程的重要解决方式。目前 Samsung 已匯入 EUV 的 7nm LPP 制程,並宣称光罩模块总数减少约 20%。而随着尺寸愈做愈小,这种减少可能会更多。

拓墣产业研究指出,目前宣告产品采用 7 奈米的厂商苹果、Samsung、华为、NVIDIA 与 AMD,若非前几大智慧手机品牌,就是 CPU/GPU 重要大厂,为了产业上的领先地位,价格敏感度也较低,也有较大生产量,才能分摊光罩、设计与制造等成本。



  • 这篇新闻让您觉得?

 
热门: 黄金 LITE 西班牙 希腊 美股 义大利 欧债 4947 KY 6643ˋˇ 迅得 昂宝 股东会 财报 除权,除息 统一超
    
強勢股 強度 績效% 弱勢股 績效%

多空趋势 强度 明日转折 支撑压力 财报自动分析